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過程氣體分析儀
原位激光過程氣體分析儀(單端式)
GasTDL-3100
GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器,無需采樣預處理系統,能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環境下進行原位氣體濃度測量。
產品咨詢
產品特性
采用TDLAS技術,被測氣體不受背景氣體交叉干擾
單端開孔,無需對光;直插式設計,極大簡化了安裝調試
無需采樣預處理系統,實時快速測量
內置標準氣體參比模塊,動態補償,實時鎖住吸收譜線,不受溫度、壓力以及環境變化的影響
可用于惡劣工業環境中,抗化學腐蝕、高粉塵、高水分
技術參數
性能參數
測量組分
O2、CO2、CO、CH4(可定制)
測量原理
TDLAS
測量范圍
0~2%VOL(可定制)
精度
≤±1%F.S.
重復性
≤±1%
分辨率
0.01%VOL
響應時間
T90≤4s
工作參數
環境溫度
-20~60℃
工作電源
24V DC
吹掃氣源
0.3~0.8MPa工業氮氣
接口信號
通訊接口
RS-485
輸出模式
4~20mA
*具體參數請以規格書為準,如需獲取更多技術信息,請聯系:027-81628829或
info@gasanalyzer.com.cn
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